痕量雜質(zhì)分析
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發(fā)布時間:2025-03-13 11:03:15 更新時間:2025-03-12 11:03:26
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作者:中科光析科學(xué)技術(shù)研究所檢測中心

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痕量雜質(zhì)分析需圍繞 檢測限(LOD/LOQ)、選擇性、準(zhǔn)確性及抗干擾能力 等核心指標(biāo)展開,適用于藥品、化學(xué)品、食品、環(huán)境樣本中 ppm至ppb級雜質(zhì) 的精準(zhǔn)識別與定量。以下是基于 ICH Q3(藥品雜質(zhì)指南)、USP <232>/<233>(元素雜質(zhì)分析) 及 ISO 17025(檢測實(shí)驗(yàn)室能力要求) 的系統(tǒng)化分析方案:
雜質(zhì)類別 | 典型雜質(zhì) | 檢測技術(shù) | 靈敏度要求 |
---|---|---|---|
元素雜質(zhì) | As、Cd、Hg、Pb(ICH Q3D) | ICP-MS(碰撞反應(yīng)池技術(shù)) | LOD ≤0.1ppm(USP <232>) |
有機(jī)殘留 | 基因毒性雜質(zhì)(如亞硝胺、磺酸酯) | LC-MS/MS(MRM模式) | LOQ ≤1ppm(ICH M7) |
溶劑殘留 | 1類/2類溶劑(ICH Q3C) | GC-Headspace/FID或MS | LOQ ≤10ppm(ICH Q3C) |
農(nóng)藥殘留 | 有機(jī)磷、擬除蟲菊酯類 | QuEChERS前處理+GC-MS/MS | LOQ ≤0.01mg/kg(歐盟EC 396/2005) |
多環(huán)芳烴(PAHs) | 苯并[a]芘、萘等 | HPLC-FLD/GC-MS(SIM模式) | LOD ≤0.1μg/kg(EPA 8310) |
微生物毒素 | 黃曲霉毒素B1、赭曲霉毒素A | UPLC-MS/MS(同位素內(nèi)標(biāo)法) | LOQ ≤0.5μg/kg(GB 2761-2024) |
設(shè)備/耗材 | 用途 | 推薦型號/品牌 |
---|---|---|
三重四極桿ICP-MS | 元素雜質(zhì)超痕量分析(He碰撞模式降干擾) | Agilent 8900(ORS³池) |
高分辨液質(zhì)聯(lián)用儀 | 復(fù)雜基質(zhì)中有機(jī)雜質(zhì)鑒定(精確質(zhì)量數(shù)) | Thermo Q Exactive HF-X(分辨率≥240,000) |
頂空-氣相色譜質(zhì)譜 | 揮發(fā)性溶劑殘留檢測(自動進(jìn)樣) | Shimadzu GCMS-TQ8050 NX(EI源) |
固相萃取裝置 | 痕量雜質(zhì)富集與基質(zhì)凈化 | Waters Oasis HLB柱(60mg/3mL) |
同位素內(nèi)標(biāo) | 校正基質(zhì)效應(yīng)與回收率偏差 | Cambridge Isotope Laboratories |
問題現(xiàn)象 | 可能原因 | 優(yōu)化措施 |
---|---|---|
基質(zhì)干擾 | 共流出物或離子抑制 | 優(yōu)化SPE凈化步驟,添加同位素內(nèi)標(biāo)(如NDMA-d6) |
檢測限不足 | 儀器靈敏度低或前處理損失 | 富集因子提升(如氮吹濃縮10倍),改用高靈敏度離子源(APCI/ESI) |
假陽性/假陰性 | 同分異構(gòu)體或背景噪聲干擾 | 高分辨質(zhì)譜(HRMS)精確質(zhì)量數(shù)確認(rèn),MS/MS碎片離子比對 |
污染引入 | 環(huán)境或試劑本底雜質(zhì) | 超純試劑(HPLC級),潔凈室操作(ISO 5級) |
通過系統(tǒng)化痕量雜質(zhì)分析,可精準(zhǔn)識別風(fēng)險物質(zhì)并滿足法規(guī)合規(guī)性。建議采用 自動化樣品前處理平臺(如Tecan Freedom EVO) 提升通量,并利用 AI輔助數(shù)據(jù)解析軟件(如Compound Discoverer) 加速未知雜質(zhì)鑒定。對于復(fù)雜基質(zhì)(如生物樣品),推薦 在線固相萃?。∣nline SPE) 與 二維色譜(2D-LC/GC) 技術(shù)以增強(qiáng)分離能力。
證書編號:241520345370
證書編號:CNAS L22006
證書編號:ISO9001-2024001
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